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反应式等离子体镀膜与磁控溅射镀膜 一体设备(PAR)

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反应式等离子体镀膜与磁控溅射镀膜 一体设备(PAR)

  技术特点 Features  

· 集成磁控溅射(PVD)、反应式等离子(RPD)镀膜;

· 产品系列从研发设备至量产设备全面布局;

· 量产产能:100 MW,250 MW,600 MW。