磁控溅射镀膜设备（PVD）
磁控溅射镀膜设备（PVD）
技术特点 Features
· 低损工艺、低温工艺、低阻&高透、高温工艺≥300 ℃；
· 产品系列从研发设备至量产设备全面布局；
· 立式传送&卧式传送；
· 应用于钙钛矿、HJT、HBC光伏/面板显示/芯片/锂电池等行业。
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技术特点 Features
· 低损工艺、低温工艺、低阻&高透、高温工艺≥300 ℃；
· 产品系列从研发设备至量产设备全面布局；
· 立式传送&卧式传送；
· 应用于钙钛矿、HJT、HBC光伏/面板显示/芯片/锂电池等行业。