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多功能薄膜沉积设备(SPE)
将真空蒸镀、反应式等离子镀膜、磁控溅射三大镀膜模块整合成一体。
TCO&ITO卷绕设备
PVD 单面卷绕溅射镀膜，TCO/ITO镀膜技术；等离子处理技术。
喷墨打印设备
常见钙钛矿各功能层的膜层沉积，无机盐层、有机盐层、电子传输层、空穴传输层、界面调控层等。
空间型原子层镀膜设备（ALD）
双源管路设计，快捷切换；精确控制原子级薄膜镀膜；布气板模块化设计，维护便捷。
反应式等离子体镀膜设备（RPD）
低损伤、低温高迁高透工艺；产品系列从研发设备至量产设备全面布局。
磁控溅射镀膜设备（PVD）
低损工艺、低温工艺、低阻&高透、高温工艺≥300 ℃；产品系列从研发设备至量产设备全面布局。
蒸镀与反应式等离子体镀膜一体设备（VAR)
集成热蒸镀（VED）和反应式等离子(RPD)镀膜；产品系列从研发设备至量产设备全面布局。
反应式等离子体镀膜与磁控溅射镀膜 一体设备（PAR）
集成磁控溅射(PVD)、反应式等离子(RPD)镀膜；产品系列从研发设备至量产设备全面布局。
多功能薄膜镀膜设备
集成热蒸镀（VED）、磁控溅射(PVD)、反应式等离子(RPD)镀膜，设备成本降低30%。
量产型蒸镀设备
模块化设计，设备更加灵活。可根据需求快速调整产线的规模和配置。
实验型蒸镀设备
根据钙钛矿工艺体系定制化设计，可进行共蒸或顺蒸实验需求。
点源蒸镀设备
单腔体设计，占地面积小，操作时间短；配置多组蒸发源，可实现共蒸。
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